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    真空電鍍技術

      我們看到激光唱片以及一些電路板的表面會有一層非常漂亮的鍍層,那么這些鍍層是不是和普通的金屬表面的鍍層的電鍍工藝一樣呢?顯然如果唱片能夠浸到水溶液中去鍍我們用到的唱片就不會是這個樣子的了。其實唱片的電鍍用到的是真空電鍍工藝,該工藝是區別于水電鍍工藝的。真空電鍍工藝包括真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍等物理氣相沉積以及化學氣相沉積等。其中蒸發電鍍是指在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發,使其淀積在電鍍對象的表面上。包括電阻式蒸發、電子束式蒸發等;濺射鍍所采用的原理是當等離子體中的高能粒子搭載固體表面時,會與固體表面的原子或者分子發生能量交換,從而使得這些分子或原子從固體中飛濺出來。離子電鍍兼具了蒸發電鍍和濺射電鍍的特點,其借助于惰性氣體輝光放電,使鍍料氣化并且離子化,經過電磁場加速后以較高的能量轟擊基體表面,外加反應氣體形成相應的鍍層,離子鍍是三者之中應用最廣的。這三種都屬于物理氣相沉積電鍍此外化學氣相沉積電鍍是指用等離子體中化學反應的方法在基片上沉積薄膜的鍍膜工藝。

          總的來說真空鍍膜或者真空電鍍工藝就是通過在真空中把金屬、合金或者化合物進行蒸發、濺射或者通過化學反應,使其沉積在電鍍對象即基體上的一種電鍍工藝。通過這種鍍膜會使得基體擁有許多新的物理性能和化學性能這一點在水電鍍上就可以得到很好的體現。真空鍍膜較之電化學電鍍和化學電鍍擁有鍍膜厚度易控制、鍍層均勻性好,附著能力強、環境污染小等等優點。真空電鍍工藝可以運用在平板光學和平板顯示、數據存儲、半導體制造、建筑玻璃、包裝工業、裝飾鍍和工具鍍、太陽能電池等場合和領域。

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